等離子清洗機又稱等離子表面處理儀器，是一種全新的高科技技術。等離子清洗機是利用等離子來達到傳統(tǒng)清洗方法無法達到的效果。等離子體是一種物質(zhì)狀態(tài)，也稱為第四種物質(zhì)狀態(tài)。對氣體施加足夠的能量使其電離，就變成了等離子體狀態(tài)。等離子體的“活性”成分包括離子、電子、活性基團、受激核素(亞穩(wěn)態(tài))、光子等。等離子清洗機是利用這些活性成分的性質(zhì)來處理樣品表面，從而達到清洗等目的。
等離子清洗機的清洗主要依靠等離子體中活性粒子的“活化”來去除物體表面的污漬。就反應機理而言，等離子體清洗通常包括以下過程:無機氣體被激發(fā)成等離子體狀態(tài)；氣相物質(zhì)吸附在固體表面；吸附基團與固體表面分子反應生成產(chǎn)物分子；分析產(chǎn)物分子以形成氣相；反應殘留物從表面分離。
等離子清洗機清洗的特點是可以處理金屬、半導體、氧化物和大多數(shù)聚合物材料，例如聚丙烯、聚酯、聚酰亞胺、聚氯乙烯、環(huán)氧樹脂甚至聚四氟乙烯，而不管要處理的基材類型如何。等離子清洗機還可以實現(xiàn)整體、局部和復雜結(jié)構的清洗。
等離子清洗機清洗時產(chǎn)生等離子體的裝置是在密封容器中設置兩個電極形成電場，用真空泵實現(xiàn)一定的真空度。隨著氣體變得越來越稀薄，分子或離子的分子間距和自由移動距離也變得越來越長。在電場的作用下，它們碰撞形成等離子體。
等離子清洗機的等離子體活性很高，有足夠的能量破壞幾乎所有的化學鍵，并在任何暴露的表面上引起化學反應。不同氣體的等離子體具有不同的化學性質(zhì)。例如，氧等離子體具有很高的氧化性能，可以氧化光刻膠產(chǎn)生氣體，從而達到清洗效果。腐蝕性氣體等離子體具有良好的各向異性，能夠滿足刻蝕的需要。輝光是在等離子體處理過程中發(fā)出的，所以它被稱為輝光放電處理。
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