真空等離子設(shè)備處理空間大，提高了處理能力，采用了可編程控制器觸摸屏控制系統(tǒng)，精確控制設(shè)備運行。主要應(yīng)用于生物醫(yī)藥行業(yè)、印刷電路板行業(yè)、半導(dǎo)體集成電路領(lǐng)域、硅膠、塑料、聚合物領(lǐng)域、汽車電子行業(yè)、航空行業(yè)等。
真空等離子設(shè)備由人機(jī)界面控制，操作更加方便簡單，視覺效果更加明顯。采用不銹鋼腔體，可根據(jù)用戶要求配置頻率、功率和電源。除了清潔功能之外，某些材料的表面性質(zhì)可以根據(jù)特定條件下的要求進(jìn)行改變。在清洗過程中，真空等離子設(shè)備的輝光放電可以增強(qiáng)這些材料的附著力、相容性和潤濕性。
真空等離子設(shè)備設(shè)計合理，可自由組合。防靜電支架可以避免靜電對產(chǎn)品的影響。真空等離子設(shè)備可以處理均，而不管要處理的襯底的類型，例如金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)聚合物材料。該真空等離子設(shè)備設(shè)備簡單，易于操作和維護(hù)，可以連續(xù)運行，而且往往幾瓶氣體就可以替代幾千公斤的清洗液，因此清洗成本大大低于濕法清洗。
真空等離子設(shè)備用于金屬工業(yè)，去除金屬表面的油脂、油污和其他有機(jī)物及氧化層。在汽車制造業(yè)中，真空等離子設(shè)備主要用于汽車制造過程中的塑料和油漆預(yù)處理。在紡織品生產(chǎn)工業(yè)中，真空等離子設(shè)備主要處理紡織品、過濾器和薄膜的親水性、疏水性和表面改性。在半導(dǎo)體工業(yè)中，真空等離子設(shè)備主要用于晶片處理、光刻膠去除和封裝前預(yù)處理。
真空等離子設(shè)備進(jìn)行表面清洗和處理清洗可以去除表面的脫模劑和添加劑，而其活化過程可以保證后續(xù)的粘接過程和涂覆過程等的質(zhì)量。對于涂層處理，可以進(jìn)一步改善復(fù)合材料的表面特性。采用真空等離子設(shè)備的等離子體表面處理技術(shù)可以按照規(guī)定的工藝要求對材料表面進(jìn)行有效的預(yù)處理。無論是產(chǎn)品還是汽車發(fā)動機(jī)，真空等離子設(shè)備的等離子體表面處理技術(shù)都有助于實現(xiàn)高質(zhì)量的精益加工。
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